울산대학교 | 미래혁신응집물질물리인재교육연구단
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ender

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2013

Dry Etching Characteristics of Bi0.5(Na0.82K0.18)0.5TiO3 Thin Films in Inductively Coupled Plasma
작성자 김** 작성일 2018-08-02 조회수 95
FERROELECTRICS
주용희,우종창,김창일,안창원,석해진,Ilwon Kim